光刻工艺:半导体芯片制造的魔法

什么是光刻工艺?
光刻工艺就像在芯片表面绘制微小电路的一种高科技“印刷”技术。它使用光线(光刻)通过掩膜(一种包含电路图案的薄片)将电路设计“刻印”到光敏树脂(一种对光敏感的材料)上。
光刻工艺的关键步骤
光刻工艺通常包括以下步骤:
1. 涂覆光敏树脂:在芯片表面涂上一层光敏树脂。
2. 掩模对准:将掩膜与芯片对齐,确保电路图案精确放置。
3. 光刻曝光:用光线照射掩膜,使其光线通过掩膜上的透明部分照射到光敏树脂上。
4. 显影:将光照射过的光敏树脂浸泡在显影液中,未被光照射的部分被溶解, revealing电路图案。
5. 蚀刻:将芯片浸入蚀刻溶液中,移除未蚀刻的区域,形成电路。
光刻技术的挑战
光刻工艺面临着一些技术挑战:
光刻技术的未来
光刻技术正在不断完善,以满足不断增长的芯片性能需求。未来的趋势包括:
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