光刻:微电子世界的雕刻艺术

光刻是一个将图案从掩膜版转移到光刻胶(一种光敏材料)上的过程,然后通过蚀刻将图案转移到衬底上(通常是硅晶圆)。这个过程的精髓在于使用了光刻机,它利用紫外线或极紫外线将掩膜版上的图案投影到光刻胶上。
掩膜版是一个透明的薄板,上面有所需的图案。当光穿透掩膜版时,一些区域会被阻挡,而另一些区域会被允许通过。落在光刻胶上的光线会使光刻胶硬化,而未暴露的区域则保持柔软。
下一步是显影,它使用化学溶液来溶解未硬化的光刻胶,留下所需的图案。最后,蚀刻步骤使用等离子体或化学溶剂去除衬底上图案之外的材料。
光刻的精度是微电子产业的核心。通过不断改进光刻技术,我们能够制造出越来越小的晶体管,从而提高计算能力和降低成本。今天,光刻机可以生产出比人类头发细 100 倍的特征,使我们能够制造出更强大、更节能的电子设备。
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