光刻胶:半导体制造中的神奇“墨水”

光刻胶是什么?
光刻胶是一种对光敏感的聚合物材料。它由光敏树脂、增感剂和溶剂组成。光敏树脂是光刻胶的核心成分,它在特定波长的光照射下会发生聚合反应,形成不溶于显影液的物质。
光刻胶的作用
在半导体制造中,光刻胶主要用于将电路图从掩模版转移到硅圆片上。掩模版上绘制了电路图的负片,当光刻胶涂覆在硅圆片上并经过曝光和显影后,硅圆片上就会形成与掩模版相对应的电路图。
光刻胶的特点
光刻胶具有以下特点:
光刻胶的类型
根据其对光的敏感性,光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。
光刻胶的应用
光刻胶广泛应用于半导体制造的各种工序中,包括集成电路、微机电系统和太阳能电池的生产。
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