紫外光刻:光与半导体的魔法舞曲

什么是紫外光刻?
紫外光刻是一种微电子制造技术,利用紫外光在感光材料上形成图案,然后通过蚀刻(去除不需要的部分)将图案转移到半导体晶圆上。简单来说,就是用光来在晶圆上“刻画”电路。
为什么用紫外光?
紫外光波长短、能量高,可以产生更精细的图案。半导体芯片中的电路越来越小,因此需要更短波长的光源来实现更小的特征尺寸。
紫外光刻的过程
紫外光刻过程大致如下:
1. 光刻胶涂覆:在晶圆上涂覆一层光刻胶,是一种对紫外光敏感的材料。
2. 遮罩对准:将带有电路图案的遮罩对准晶圆,遮挡住需要保留的部分。
3. 紫外光曝光:将紫外光照射到晶圆上,紫外光穿透遮罩照射到光刻胶上,使光刻胶发生化学反应。
4. 显影:用显影液冲洗晶圆,未被曝光的光刻胶被去除,显露出电路图案。
5. 蚀刻:用蚀刻剂去除晶圆上不需要的部分,形成最终的电路。
紫外光刻的应用
紫外光刻广泛应用于半导体制造中,包括:
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